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- 微流控SU-8光刻胶的紫外曝光 - 知乎
SU-8光刻胶 UV曝光的目的是通过部分SU-8光刻胶的 PAC （PhotoActiv Component）激活 活化来引发交联。 这种活化将会改变SU-8的局部性质，这种性质在烘烤后，可使SU-8光刻胶可溶于或不溶于溶剂。
- SU-8 光刻胶及光刻工艺
SU-8 的光刻机理 简述如下: 光刻胶中的光引发剂吸收光子发生了光化学反应, 生成一种强酸, 其作用是在中烘过程中作为酸催化剂促进交 联反应的发生。只有曝光区域的光刻胶中才含有强酸, 而未曝光的区域则没有这种强酸的存在。
- SU-8 光刻胶曝光时间的确定_光刻曝光时间-CSDN博客
本文介绍了SU-8光刻工艺中的关键步骤：确定膜厚、曝光光强及显影时间。 这些参数对于确保最终产品的质量和性能至关重要。 摘要生成于 C知道 ，由 DeepSeek-R1 满血版支持， 前往体验 > 文章浏览阅读1 6k次。 本文介绍了SU-8光刻工艺中的关键步骤：确定膜厚、曝光光强及显影时间。 这些参数对于确保最终产品的质量和性能至关重要。
- 原创 如何成功进行微流控SU8光刻胶的紫外曝光？ - 面包板社区
SU-8的曝光时间是光刻胶被UV照亮的时间。 曝光时间也与UV线的功率有关，并且它们一起确定了照射到光刻胶的能量。 曝光时间太短或太长将会导致光刻胶曝光不足或曝光过度，从而导致分辨率下降。
- SU-8光刻胶起源、曝光、特性 - 电子发烧友网
本文介绍了SU-8光刻胶的起源、曝光过程、材料特性和加工方法。 SU-8光刻胶具有良好的 光学 特性（透明），优异的生物相容性，因此被广泛的应用在 MEMS 领域，例如光波导、微透镜、光学阵列等光学器件，微流控芯片、微 电机 阵列、 高通 量分析生物医学器件，微型 机械 臂、微型 传感器 等 微机 械系统。 可能有很多小伙伴都很好奇SU-8到底是什么，它凭什么可以做这么多事情，本文将带你详细了解。 一、起源 SU-8是由IBM公司开发的并拥有该项专利 (美国专利号4882245)。 原配方组成成分有EPON SU-8树脂 (来源于 ShellChemicals)、丁内酯 (GBL)溶剂和作为光敏剂的三芳基锍盐 (重量比5%-10%)。
- UV-LIGA中光源波长与曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响. pdf . . .
研究了改变 光源的波长和曝光量对SU一8光刻胶成形的影响，揭示了在一定范围内线宽随曝光量非线性变化的规律。 从 聚合度和聚合所得高分子结构两方面对该变化规律给出了合理的解释，并基于该变化规律提出了一种新的消 除微结构倒角的方法。
- 一种利用h线激光直写机进行i线SU8系列光刻胶曝光的方法与流程
本发明通过使用h线激光直写机对i线su8系列光刻胶进行多次曝光，最终成功显影。克服了h线激光直写机光源能量太小，不足以使i线su8系列光刻胶充分曝光的缺点，缩短了科研开发周期，降低了生产成本，安全可靠。
- 移动焦平面正反面曝光制备 SU-8 PDMS 浓度梯度产生器 . . .
结合DMD数字光刻及LED光源, 本文提出一种正反面焦平面移动的低功率重复曝光方法, 实现了SU-8 在整个深度上所需能量的充分聚合, 同时有效防止了SU-8 顶部过曝光、 底部欠曝光的情况。
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