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半导体“刻蚀(Etch)”工艺技术的详解; - 知乎
刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。 是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。
刻蚀_百度百科
刻蚀(英文:Etch)是半导体制造、微电子IC制造及微纳制造工艺中的关键步骤,与光刻工艺共同实现图形化处理。
ETCH中文 (简体)翻译:剑桥词典 - Cambridge Dictionary
ETCH翻译:(尤指在金属或玻璃上)蚀刻,凿出。 了解更多。
半导体制造工艺—刻蚀(EtchTechnology)-电子工程专辑
在将晶圆制成半导体的过程中需要采用数百项工程。 其中,一项最重要的工艺是蚀刻(Etch)——即,在晶圆上刻画精细电路图案。 蚀刻(Etch)工程的成功取决于在设定的分布范围内对各种变量进行管理,并且每一台刻蚀设备都需做好在最佳条件下运行的准备。
半导体工艺(五)——刻蚀(Etch)_半导体etch-CSDN博客
:在任何的刻蚀工艺中,总会有一定程度的、计划的过刻蚀,以便允许表层厚度变化,再或者是为了下一步工艺的要求等等。 :湿法喷雾刻蚀、浸没刻蚀。 _半导体etch
什么是半导体ETCH工艺? - 知乎
半导体蚀刻 (Etch)工艺是半导体制造过程中的关键步骤之一,用于将 光刻工艺 中形成的掩膜图案精确地转移到晶圆表面的材料层上,以下从定义、原理、类型、工艺流程、关键参数和挑战等方面进行详细介绍:
半导体制程中“刻蚀工艺”的详解; - 知乎
在半导体加工工艺中,常听到的两个词就是光刻 (Lithography)和刻蚀 (Etching),它们像俩兄弟一样,一前一后的出现,有着千丝万缕的联系,半导体刻蚀(Etch)的目的是将光刻得到的光刻胶图形转移到晶圆表面的薄膜上,…
半导体制造为什么要刻蚀,刻蚀有哪些分类? - 知乎
刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。 是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。
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