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高精度プロセス・デバイスシミュレーションのためのイオン注入分布解析-擬似結晶拡張LSS理論によるイオン注入分布解析- - 擬似結晶拡張LSS 理論によるイオン注入分布解析- Ion Implantation Profile Analysis for Accurate Process Device Simulation ―Prediction of Ion Implantation Profile Based on Quasi Crystal Extended LSS Theory―