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PARKHILL REALTY
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半导体制造前道和后道怎么区分? - 知乎 前道工序(Front - End Of Line,FEOL):也称为晶圆制造,主要是在半导体晶圆上构建集成电路的核心结构,是从原始的硅晶圆开始,通过光刻、刻蚀、掺杂、薄膜沉积等一系列复杂工艺,在晶圆上制造出晶体管、二极管等有源器件以及电阻、电容等无源器件,并
半导体芯片制造的“前道工艺”、“中道工艺”和“后道工艺 . . . 第二種: 前道 = FEOL (front end of line) = Transistor fabrication 後道 = BEOL (Back end of line) = Interconnect fabrication 這裡的 line,就是對應上一種譯法的manufacturing,也就是說 Front-end裡面,又包含了FEOL和BEOL。 見下圖: source: BEOL-wikipedia 回來講一下"中道",
半导体芯片制造的“前道工艺”、“中道工艺”和“后道工艺 . . . 一、 前道工艺(Front-End-of-Line, FEOL) 定义与作用: 前道工艺是晶圆制造的核心阶段,通过在硅基片上形成晶体管、电容等电子元件,构建集成电路的基础结构。 其核心目标是通过光刻、刻蚀等技术实现纳米级器件图形化,直接影响芯片性能和良率1713。
知乎盐选 | 1. 2 集成电路制造流程 在 CMOS 工艺过程中,通常按照工艺模块分为前道工艺(front end of line,FEOL)、中道工艺(middle of line,MOL)和后道工艺(back end of line,BEOL)。前道工艺包括制造有源区、阱区、栅极、源极和漏极等;后道工艺包括制造金属互连线及金属通孔,目前的先进节点(0 18μm 及更先进节点)大多选用铜作为
半导体工艺工程师发展前景怎么样? - 知乎 公司不同,部门分类可能略有差异,如IMP可能会归到DF,Dry ETCH和WET ETCH可能分开也有可能合并,但万变不离其宗。以上工艺工程师一般均归属到module。那根据前后段,一般又分为FEOL, MEOL, BEOL三个loop,特别的制程BEOL之后可能有bonding等,而封装就是到了wafer已经切
芯片制造里FEOL和BEOF哪一个前景好? - 知乎 知乎,中文互联网高质量的问答社区和创作者聚集的原创内容平台,于 2011 年 1 月正式上线,以「让人们更好的分享知识、经验和见解,找到自己的解答」为品牌使命。知乎凭借认真、专业、友善的社区氛围、独特的产品机制以及结构化和易获得的优质内容,聚集了中文互联网科技、商业、影视
材料类怎么转向半导体? - 知乎 半导体工艺里面,从FEOL到BEOL,大概有如下方向:薄膜生长 (deposition),退火 (anneal),蚀刻 (etch),光刻 (litho),化学机械抛光 (cmp),掺杂 (doping, 多谢评论指正),清洗 (clean),电镀 (plating)等等。下面我会根据简单说一说各工艺当中和材料专业有交集的部分 金属材料背景的选手,由于学过材基,热处理
GAA环栅晶体管中悬空的硅通道是怎么做出来的? - 知乎 GAAFET和MBCFET中的硅通道都是悬空的,既然单晶硅基底是通过定向生长实现的,无法在芯片制造过程中悬空生…
有没有半导体大佬讲一下哪个工艺最适合长期发展? - 知乎 而Thin film和Diff要好很多,也能避免辐射,但是负责的工艺很局限,比如单纯的FEOL或者BEOL,跳槽转行相对而言受限。 除非是18-21年的大行情,否则很难。 有人说Wet,wet在某些FAB也划入Diff,这家竟然说轻松?
硅农 - 知乎 相信很多同学都有看过下面这本书,书中有关于0 13μm工艺的详细介绍 但随着目前国内半导体行业的快速发展,新Fab已经很少应用书中相关的一些工艺,尤其是后段工艺 在90nm节点以前,后段工艺中的金属互联以…